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為趕超臺積電!三星開始批量生產6納米芯片

2020年1月6日 14:32  集微網  作 者:木棉

據businessKorea報道,三星電子已開始批量生產基于極紫外(EUV)技術的6納米芯片。

三星于去年4月向全球客戶提供7納米產品,自開始大規(guī)模生產7納米產品以來,三星僅在八個月內就推出了6納米產品。三星的微加工工藝技術升級周期正在縮短,特別是向6納米EUV工藝的過渡有望縮小與全球第一大晶圓代工廠臺積電(TSMC)的差距。

據介紹,三星電子去年12月在京畿道華城校區(qū)S3線開始批量生產基于EUV技術的6納米芯片。三星合作伙伴公司的一位官員說:“據我所知,6納米產品已經交付給北美的大型企業(yè)客戶!毙袠I(yè)專家認為,三星的6納米產品將提供給高通公司。

三星希望通過開始批量生產6納米產品給臺積電施加壓力。全球市場研究公司TrendForce表示,去年第四季度,臺積電的市場份額占全球晶圓代工市場的52.7%,與三星的差距擴大到17.8%。

三星未能趕超臺積電的主要原因是三星在16納米和12納米工藝之后開發(fā)7納米工藝的時間很晚。臺積電通過其7納米技術,壟斷了蘋果(最大的無晶圓廠客戶)的AP供應。

此前,三星電子在2014年首次將14納米鰭式場效應晶體管(FinFET)工藝商業(yè)化,但在7納米工藝開發(fā)中卻失去了領先臺積電的優(yōu)勢。目前,7納米產品在三星銷售中所占的份額很小。為了克服這個問題,三星正在加緊努力以縮短 7nm以下微加工工藝的開發(fā)周期。

繼大量生產6納米產品之后,三星電子計劃在今年上半年推出5納米產品。此外,三星電子有在今年上半年采用正在研發(fā)中的最新3納米全柵極(GAA)工藝技術來制造尖端芯片的計劃。GAA被認為是當前FinFET技術的升級版,能確保芯片制造商進一步縮小芯片體積。

編 輯:章芳
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